五金镀层测量已成为加工工业、表面工程质量检测的重要环节，是产品达到优等质量标准的必要手段。为使产品国际化，我国出口商品和涉外项目中，对镀层厚度有了明确要求。
镀层厚度的测量方法主要有：楔切法，光截法，电解法，厚度差测量法，称重法，X射线荧光法，β射线反向散射法，电容法、磁性测量法及涡流测量法等等。这些方法中**种是有损检测，测量手段繁琐，速度慢，多适用于抽样检验。
五金镀层测厚仪是将X射线照射在样品上，通过从样品上反射出来的*二次X射线的强度来。测量镀层等金属薄膜的厚度，因为没有接触到样品且照射在样品上的X射线只有45-75W左右，所以不会对样品造成损坏。同时，测量的也可以在10秒到几分钟内完成。
五金镀层测厚仪测量值精度的影响因素
1．影响因素的有关说明
a基体金属磁性质
磁性法测厚受基体金属磁性变化的影响（在实际应用中，低碳钢磁性的变化可以认为是轻微的），为了避免热处理和冷加工因素的影响，应使用与试件基体金属具有相同性质的标准片对仪器进行校准；亦可用待涂覆试件进行校准。
b基体金属电性质
基体金属的电导率对测量有影响，而基体金属的电导率与其材料成分及热处理方法有关。使用与试件基体金属具有相同性质的标准片对仪器进行校准。
c基体金属厚度
每一种仪器都有一个基体金属的临界厚度。大于这个厚度，测量就不受基体金属厚度的影响。本仪器的临界厚度值见附表
d边缘效应
本仪器对试件表面形状的陡变敏感。因此在靠近试件边缘或内转角处进行测量是不可靠的。
e曲率
试件的曲率对测量有影响。这种影响总是随着曲率半径的减少明显地增大。因此，在弯曲试件的表面上测量是不可靠的。
f试件的变形
测头会使软覆盖层试件变形，因此在这些试件上测出可靠的数据。
g表面粗糙度
基体金属和覆盖层的表面粗糙程度对测量有影响。粗糙程度增大，影响增大。粗糙表面会引起系统误差和偶然误差，每次测量时，在不同位置上应增加测量的次数，以克服这种偶然误差。如果基体金属粗糙，还必须在未涂覆的粗糙度相类似的基体金属试件上取几个位置校对仪器的零点；或用对基体金属没有腐蚀的溶液溶解除去覆盖层后，再校对仪器的零点。
g磁场
周围各种电气设备所产生的强磁场，会严重地干扰磁性法测厚工作。
h附着
涂镀层测厚仪精度的影响有哪些因素？
1．影响因素的有关说明
a基体金属磁性质磁性法测厚受基体金属磁性变化的影响（在实际应用中，低碳钢磁性的变化可以认为是轻微的），为了避免热处理和冷加工因素的影响，应使用与试件基体金属具有相同性质的标准片对仪器进行校准；亦可用待涂覆试件进行校准。
b基体金属电性质基体金属的电导率对测量有影响，而基体金属的电导率与其材料成分及热处理方法有关。使用与试件基体金属具有相同性质的标准片对仪器进行校准。
c基体金属厚度每一种仪器都有一个基体金属的临界厚度。大于这个厚度，测量就不受基体金属厚度的影响。本仪器的临界厚度值见附表1。
d边缘效应本仪器对试件表面形状的陡变敏感。因此在靠近试件边缘或内转角处进行测量是不可靠的。
e曲率试件的曲率对测量有影响。这种影响总是随着曲率半径的减少明显地增大。因此，在弯曲试件的表面上测量是不可靠的。
f试件的变形测头会使软覆盖层试件变形，因此在这些试件上测出可靠的数据。
g表面粗糙度基体金属和覆盖层的表面粗糙程度对测量有影响。粗糙程度增大，影响增大。粗糙表面会引起系统误差和偶然误差，每次测量时，在不同位置上应增加测量的次数，以克服这种偶然误差。如果基体金属粗糙，还必须在未涂覆的粗糙度相类似的基体金属试件上取几个位置校对仪器的零点；或用对基体金属没有腐蚀的溶液溶解除去覆盖层后，再校对仪器的零点。
g磁场周围各种电气设备所产生的强磁场，会严重地干扰磁性法测厚工作。
h附着物质本仪器对那些妨碍测头与覆盖层表面紧密接触的附着物质敏感，因此，必须清除附着物质，以保证仪器测头和被测试件表面直接接触。
i测头压力测头置于试件上所施加的压力大小会影响测量的读数，因此，要保持压力恒定。
j测头的取向测头的放置方式对测量有影响。在测量中，应当使测头与试样表面保持垂直。
很多金属制品以及合金饰品都会进行电镀，但是对于电镀的厚度是需要用进行测量的，合格的产品才会被销往市场上，目前国产镀层测厚仪已经发展的比较完善，现在国产镀层测厚仪的种类也是非常多的，那么国产镀层测厚仪使用时需要注意什么？
1，基体金属特性：对于磁性方法，国产镀层测厚仪的标准片应该与试件基体金属的磁性和表面粗糙度相似，所以在使用的时候国产镀层测厚仪的标准片应该具备基体金属特性这个方面；
2，基体金属厚度：国产镀层测厚仪在使用之前要检查基体金属厚度是否**过临界厚度，如果没有，进行校准后可以测量；
3，边缘效应：不应在紧靠试件的突变处，使用国产镀层测厚仪的时候不应该在边缘、洞和内转角等处进行测量；
4，曲率：对于曲率的测量，不应在试件的弯曲表面上测量，使用国产镀层测厚仪的时候这一点是非常重要的，曲率的测量并不是简单的弯曲表面测量；
5，读数次数：通常国产镀层测厚仪器的每次读数并不完全相同，因此必须在每一测量面积内取几个读数，覆盖层厚度的局部差异，也要求国产镀层测厚仪在任一给定的面积内进行多次测量，表面粗造时更应如此。
此外测量的时候还需要注意被测量物品的表面清洁度，测量前，应清除表面上的任何附着物质，如尘土、油脂及腐蚀产物等，保证国产镀层测厚仪测量时周围没有任何的磁场干扰，因为磁场的干扰程度也会影响国产镀层测厚仪的时候，此外还应该注意国产都城测厚仪的测头取向，测头的放置方式对测量有影响，在测量时应该与工件保持垂直。
电镀简单的说就是将接受电镀的部件浸于含有被沉积金属化合物的水溶液中,以电流通过镀液,使电镀金属析出并沉积在部件上。因为用途和材料不同，一般的电镀有镀锌、镀金、镀银、镀铬、镀锡、镀镍和镀铜镍合金等，根据需要镀层又分为一层、二层和多层电镀等。从技术方便来话，电镀的镀层不仅仅要平整还要均匀，而对电镀的镀层厚度要求也要，比如电镀金，镀的太厚，电镀厂家的成本就要增加，而镀的薄了，又可能满足不了客户的需求，所以电镀的膜厚测量也是电镀技术能力和成本的一个重要指标。
专业提供电镀镀层膜厚仪Thick 800A，解决客户镀层膜厚测量的难题
利用X射线穿透被测材料时,X射线的强度的变化与材料的厚度相关的特性,从而测定材料的厚度,是一种非接触式的动态计量仪器。针对检测样本的不同种类，可在下列3种型中进行选择。测量引线架、连接器等各类电子元器件的微型部件、**薄薄膜的型，能够处理尺寸为600 mm×600 mm的大型印刷电路板的大型印刷电路板用型，适合对陶瓷芯片电极部分中，过去难以同时测量的Sn/Ni两层进行高能测量的型。
兼顾易操作性与安全性
放大了开口，同时样本室的门也可单手轻松开闭。从而提高了取出、放入检测样本的操作简便性，并且该密封结构也大大减少了X射线泄漏的风险，让用户放心使用。
检测部位可见
通过设置大型观察窗、修改部件布局，使得样本室门在关闭状态下亦可方便地观察检测部位。
清晰的样本图像
使用了分辨率比以往更高的样本观察摄像头，采用全数码变焦，从而消除位置偏差，可以清晰地观察数十μm的微小样本。
另外，亦采用LED作为样本观察灯，*像以往的机型那样对灯泡进行更换。
电镀层膜厚仪Thick800A:
测量元素：原子序数13（Al）～92（U）
X射线源：管电压：45 kV
FT：Mo FTh：W FTL：Mo
检测器：Si半导体检测器（SDD）（*液氮）
型：Thick 800A
元素分析范围从硫(S)到铀（U）。
同时可以分析30种以上元素，五层镀层。
分析含量一般为ppm到99.9 。
镀层厚度一般在50μm以内（每种材料有所不同）
任意多个可选择的分析和识别模型。
相互的基体效应校正模型。
多变量非线性回收程序
度适应范围为15℃至30℃。
电源: 交流220V±5V, 建议配置交流净化稳压电源。
外观尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm
样品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm
重量：90kg
产品优势：
采用非真空样品腔；专业用于PCB镀层厚度，金属电镀镀层分析；可同时分析镀层中的合金成分比列；多镀层，1～5层；
http://jstryq.cn.b2b168.com
