热门搜索:
膜厚仪与涂层测厚仪的差别
膜厚仪一般来说和涂层测厚仪是一类产品。
膜厚仪一般是测氧化膜层厚度,常见的铝基,铜基氧化,测量时候用涂层测厚仪选择N(非磁性)探头,这样测铝基等氧化层也称为膜厚仪。
涂层测厚仪正常情况下有两种测量原理,配F合N探头,或者FN一体探头。氧化层一般是几微米到十几微米,但是普通的涂层测厚仪误差比较大,需要用高精度的涂层测厚仪测量氧化层.
两者是只是根据材料有细微区别,不过现在使用者很多不了解,也相互称呼。
膜厚仪又名膜厚测试仪,分为手持式和台式二种,手持式又有磁感应镀层测厚仪,电涡流镀层测厚仪,荧光X射线仪镀层测厚仪。手持式的磁感应原理时,利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小,来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小,来表示其覆层厚度。膜厚仪也叫X射线测厚仪,它的原理是物质经X射线或粒子射线照射后,由于吸收多余的能量而变成不稳定的状态。从不稳定状态要回到稳定状态,此物质必需将多余的能量释放出来,而此时是以荧光或光的形态被释放出来。荧光X射线镀层厚度测量仪或成分分析仪的原理就是测量这被释放出来的荧光的能量及强度,来进行定性和定量分析。